提升检测金属离子污染敏感性的方法.pdfVIP

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2023-06-28 发布于四川
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提升检测金属离子污染敏感性的方法.pdf

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本发明提供一种提升检测金属离子污染敏感性的方法，包括先采用无偏置射频，大压力的各向同性工艺处理过程，再采用大功率偏置射频和小压力的各项异性工艺处理过程，或者先第二步再第一步的工艺条件，改善等离子体的在工艺腔体的分布，以同时捕捉轻重分子量的不同金属元素。本发明在刻蚀机台上通过腔室气体压力高低调节和射频功率大小的调节，使等离子体能触及到工艺腔体的角角落落，更真实的反应腔体金属污染的时间情况，大大提升了ICPMS检测的敏感性和稳定性，满足后续产品不断迭代的工艺需求。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116344326 A (43)申请公布日 2023.06.27 (21)申请号 202310341067.0 (22)申请日 2023.03.31 (71)申请人上海华力微电子有限公司地址 2