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氮化硅的制备性质及应用;2;3;4;在工业性能上, Si3N4材料表现出了较好的工艺性能。(1)机械强度高,硬度接近于刚玉,有自润滑性耐磨;(2)热稳定性高,热膨胀系数小,有良好的导热性能;(3)化学性能稳定,能经受强烈的辐射照射等等。;常用的制备方法有 : 硅粉直接氮化法 碳热还原法 卤化硅氨解法 制备前驱体法 化学复分解法 原位合成法 硅合金氨解法 等;7;8;9;10;11;12;13;14;15;普遍存在如下不足 : 由大颗粒氮化硅、 多相粉体烧结制备, 脆性大、 均匀性差、 可靠性低、 韧性和强度差 而硅粉直接氮化法制备氮化硅粉体要求氮气压力必须足够高, 以实现 Si 和 N2 的充分接触。一般燃烧合成Si3N4 的氮气压力低限是3MPa, 但有时高达100MPa以上。采用高压合成工艺不仅因设备投资高而且增加了生产成本, 同时也给生产带来了安全隐患。从国内外氮化硅粉体的指标测试和试烧结果看来, 国内最具代表性企业生产的 Si3N4 平均颗粒在 3 微米左右, 金属杂质含量较高, 难以达到合格产品要求, 而进口的粉体为 0.7 微米以下。因此, 为满足市场需求, 工业化生产超微、 高质量的氮化硅粉末是国内氮化硅行业发展中亟待解决的难题, 刻不容缓。关键在于对其合成工艺进行改进。;前景;18;感谢观看!
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