一种提高溅射镀膜稳定性的方法.pdfVIP

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2023-06-26 发布于四川
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一种提高溅射镀膜稳定性的方法.pdf

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本发明属于半导体技术领域，提供了一种提高溅射镀膜稳定性的方法，本发明在溅射镀膜的过程中，通过靶材初始厚度、靶材利用率、靶材实际使用寿命、靶材极限使用寿命计算出靶材和基片的间距变化量，当靶材和基片的间距变化量达到指定的d时，将基片向上移动d，使得靶材和基片之间的间距恢复至h，然后重复该调节的步骤，最终制得薄膜；本发明的方法保证了在溅射镀膜的量产过程中，保持靶材和基片的间距不变，还通过靶材实际使用寿命来计算d，精准地控制调节靶材和基片的间距的时机，提高溅射镀膜稳定性，所制得薄膜膜质特性一致，尤其适用

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116288208 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310280854.9 (22)申请日 2023.03.13 (71)申请人深圳市矩阵多元科