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本发明涉及薄膜表面金属化技术领域,尤其涉及一种镀铜聚合物膜的制备方法及使用的装置。本发明提供的镀铜聚合物膜的制备方法:将高能铜离子束注入聚合物膜表面,聚合物膜表面形成聚合物‑铜混合层,所述高能铜离子束的束流强度≥10mA;将低能铜离子束沉积在所述聚合物‑铜混合层表面,形成第一铜层,所述低能铜离子束的束流强度<10mA;采用电子束蒸发,在所述第一铜层表面沉积第二铜层;将低能锡离子束沉积在所述第二铜层表面,形成锡抗氧化层,所述低能锡离子束的束流强度<10mA,得到镀铜聚合物膜。本发明提供的制备方法能
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116288162 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310289321.7 (22)申请日 2023.03.23 (71)申请人 珠海凯赛奥表面技术有限公司 地址
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