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本申请提供了一种基于铌酸锂单晶薄膜的畴壁元件及其制备方法,通过在铌酸锂单晶表面离子注入、剥离损伤层并与衬底直接键合得到铌酸锂单晶薄膜,再利用旋涂掩膜层通过光刻和干法刻蚀图形后生长硬掩膜,最终得到基于铌酸锂单晶薄膜的畴壁元件。本申请采用微纳加工技术与外场调控相结合方式诱导铁电单晶薄膜凸起结构敏感单元电畴反转,以实现导电畴壁束缚电荷分布的精确调控,形成了尾对尾和头对头的畴壁电流,有效解决了铌酸锂单晶畴壁电流测量时矫顽场过大、电流较小、不良电学接触等问题,制得产物不惧各类恶劣环境、测量精度高,使用寿命
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116281838 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310208055.0 G01R 19/00 (2006.01) (22)申请日 2023.03.
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