半导体装置以及测量处理系统.pdfVIP

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2023-06-22 发布于四川
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半导体装置以及测量处理系统.pdf

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本发明提供半导体装置以及测量处理系统。该半导体装置以及测量处理系统具备对多个测量值进行平均处理来计算平均测量值的结构，与软件处理的情况相比，能够在更短时间内获取更正确的平均测量值。该半导体装置以及测量处理系统包含：平均处理部，计算平均测量值，该平均测量值是关于从切换部输出的多个测量对象中的每个测量对象的多个观测值的平均值，其中，上述切换部切换并输出从多个测量对象中的每个测量对象获取的测量值；计时器，生成计时器信号，该计时器信号是预先决定的间隔的定时信号；以及控制部，根据计时器信号和测量序列来控制

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113406465 A (43)申请公布日 2021.09.17 (21)申请号 202110192040.0 (22)申请日 2021.02.20 (30)优先权数据 2020-0341