镀膜系统与方法.pdfVIP

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2023-06-22 发布于四川
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镀膜系统与方法.pdf

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本申请公开了一种镀膜系统与方法，该系统包括：镀膜设备和线圈磁控设备，在镀膜过程中，待镀件放置于真空箱中，待镀件的镀膜面与靶材相对设置，线圈放置于镀膜设备的一侧，靶材与待镀件之间的区域位于通电线圈产生的磁场中，通电线圈的磁场方向与永磁铁的磁场方向相同。通过向靶材与待镀件之间的区域提供强磁场，降低或者消除航天器荷载上形成的镀膜的磁性，提高航天器在轨运行的安全性。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113416936 B (45)授权公告日 2022.08.26 (21)申请号 202110711003.6 审查员刘化然 (22)申请日 2021.06.25