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本发明提供一种ITO靶材废靶循环利用方法，通过将ITO废靶放入汽化炉内，将炉内温度呈梯度升高至4000‑5000℃，0‑30min升温至500℃，在此温度下放入ITO废靶，之后保温，30‑40min升温至3000℃，40‑60min升温至4000‑5000℃，之后保温，直至ITO废靶全部汽化，最后在氮气气氛下冷却，得到纯度4N，比表面6‑8的ITO粉末，再进行球磨、冷等静压、烧结、机加工、绑定，最终得到ITO靶材，这样采用梯度升温，在升温至500℃时放入废靶，再升温至4000‑5000℃，可以对
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113387682 A (43)申请公布日 2021.09.14 (21)申请号 202110564896.6 (22)申请日 2021.05.24 (71)申请人 芜湖
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