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本公开提供一种薄膜晶体管的制备方法及薄膜晶体管,属于显示技术领域,其可解决现有的薄膜晶体管的制备过程中需要较多数量的掩膜板的问题。本公开的薄膜晶体管的制备方法,包括:通过一次构图工艺,在基底上形成有源层;在有源层背离基底一侧沉积并形成栅极绝缘层;通过一次构图工艺,形成贯穿栅极绝缘层的第一过孔和第二过孔;第一过孔和第二过孔分别位于有源层的两端;通过一次构图工艺,在栅极绝缘层上形成第一电极、栅极和第二电极;第一电极通过第一过孔与有源层连接,第二电极通过第二过孔与有源层连接;栅极在基底上的正投影与有源
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113299559 A
(43)申请公布日 2021.08.24
(21)申请号 202110702986.7
(22)申请日 2021.06.24
(71)申请人 京东方科技集团股份有限公司
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