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本发明公开了一种化学机械抛光后清洗液的制备方法。本发明提供了一种清洗液的制备方法。本发明的清洗液的制备方法为:将清洗液的原料混合,即可,清洗液的原料包括下列质量分数的组分:0.01%‑25%强碱、0.01%‑30%醇胺、0.001%‑1%抗氧化物、0.01%‑0.1%杂环化合物、0.01%‑10%缓蚀剂、0.01%‑10%螯合剂、0.01%‑5%表面活性剂和14%‑75%水,各组分质量分数之和为100%;其中,杂环化合物为嘧菌腙和三环唑,嘧菌腙和三环唑的质量比为9:1。本发明的制备方法得到的清洗
(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113151837 B (45)授权公告日 2022.08.05 (21)申请号 202110461580.4 (56)对比文件
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