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本发明属于光刻领域，更具体地，涉及一种合作吸收双光束超分辨光刻系统及方法。该系统包括光源模块、光刻光路模块以及光刻胶模块；光源模块包括第一光源和第二光源，使用两束相同或不同波长的光，一束为制造光，另一束也为制造光，两束光被调制成平行光束，经过光刻镜头进行叠加，叠加部分形成叠加光斑，用于光刻制造，由于叠加部分的光场很小，从而达到超衍射极限的光刻分辨率。两束光对光刻胶材料共同作用，最终消除第一束光由衍射带来的对图案边缘的影响，使得图案更加明锐，提高分辨率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113156773 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 202110352405.1 (22)申请日 2021.03.31 (71)申请人 华中科技大学 地址
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