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本发明公布一种遮罩结构及隔离柱制作方法，遮罩结构包括第一掩膜框、第二掩膜框和非镂空区域；所述第一掩膜框围绕所述非镂空区域，所述第一掩膜框和所述非镂空区域具有间隔，所述第一掩膜框和所述非镂空区域之间的间隔为镂空区域；所述第二掩膜框设置在所述第一掩膜框的顶部和所述非镂空区域的顶部上，所述第二掩膜框围绕所述非镂空区域，所述第二掩膜框上设置开孔，所述开孔位于镂空区域的上方，所述开孔用于作为薄膜材料沉积的通道。上述技术方案通过第二掩膜框来定位第一掩膜框和非镂空区域，当薄膜材料从第一掩膜框的顶部方向下沉积时
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113161508 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 202110245246.5 H01L 27/32 (2006.01) (22)申请日 2
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