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2023-06-14 发布于四川
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公开了一种用于光刻系统中的掩模版子场热控制的设备。该设备包括被配置为固定物体的夹具。夹具包括在空间上以图案布置的多个气体分布特征。该设备还包括气压控制器，该气压控制器被配置为单独地控制通过多个气体分布特征中的每个气体分布特征的气体流量，以对夹具与物体之间的空间中的气压分布进行调制。气体分布特征包括以阵列形式布置的多个沟槽或孔。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113168123 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 201980082729.9 (74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任