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本发明涉及一种在透射电子显微镜中测试材料霍尔/反常霍尔效应的方法,包括以下步骤:(1)选取微纳尺度测试样品与原位测试芯片连接固定,得到样品/芯片器件;(2)将样品/芯片器件置于原位测试样品杆中,再插入透射电子显微镜中;(3)对样品/芯片器件所在区域施加磁场,并对样品/芯片器件通入电流,在透射电子显微镜同步观察过程中获取霍尔/反常霍尔效应相关数据,即完成。与现有技术相比,本发明实现了在透射电子显微镜原位测试平台中,对材料形貌/磁畴结构和输运特性的同步观察。
(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113125474 B (45)授权公告日 2022.05.20 (21)申请号 202110295694.6 G01N 23/20008 (2018.01)
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