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本发明涉及用于在成像质谱法中自动聚焦的系统和方法。本发明通过在自动聚焦系统中包含多个孔径(诸如二维布置地多个孔径)而提供对当前IMS和IMG设备和方法的改进。由于从穿过一个或多个孔径的照明辐射测量在样本上的聚焦失败时,在自动聚焦系统中使用多个孔径提供了冗余,因此减少了不成功自动聚焦尝试的次数。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113167691 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 201980072891.2 (74)专利代理机构 北京康信知识产权代理有限
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