一种化学机械抛光液.pdfVIP

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2023-06-14 发布于四川
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本发明提供一种化学机械抛光液，包括研磨颗粒、金属腐蚀抑制剂、络合剂、氧化剂以及聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物表面活性剂。本申请的化学机械抛光液可以有效减少和控制介电材料与铜线边界处的边缘过度侵蚀的产生，在保持较高的钽和二氧化硅的去除速率的同时，对低介电常数材料的去除速率有显著抑制作用，满足阻挡层抛光过程中对各种材料的抛光速率和选择比的要求，能很好的控制抛光后的碟型凹陷，满足先进制程中对抛光界面平整度的严苛要求。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113122145 A (43)申请公布日 2021.07.16 (21)申请号 20191