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本公开涉及具有铁电随机存取存储器和可调电容器的片上系统。一种半导体器件,包括:衬底;第一电介质层,位于衬底之上;存储器单元,位于半导体器件的第一区域中的衬底之上,其中,存储器单元包括第一电介质层中的第一铁电结构,其中,第一铁电结构包括第一底部电极、第一顶部电极和介于这两者之间的第一铁电层;以及可调谐电容器,位于半导体器件的第二区域中的衬底之上,其中,可调谐电容器包括第二铁电结构,其中,第二铁电结构包括第二底部电极、第二顶部电极和介于这两者之间的第二铁电层,其中,第二铁电结构的至少一部分位于第一电
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113130490 A (43)申请公布日 2021.07.16 (21)申请号 202011331585.7 (22)申请日 2020.11.24 (30)优先权数据 62/955,19
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