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本发明提供处理基板的装置和处理基板的方法。在基板处理装置中，减小处理腔室的非加热状态和加热状态下的载物台与载物台周边构件之间的位置偏移。在将载物台周边构件设置于处理腔室时，利用配置在靠近基准位置的位置的第1定位销使载物台周边构件相对于处理腔室固定。另一方面，从基准位置观察位于比第1定位销远的位置的第2定位销插入于第2孔部，该第2孔部沿着该第2定位销的移动的方向而形成为长孔形状。利用该结构，将处理腔室从非加热状态切换到加热状态时的载物台周边构件的位置偏移被抑制到第1定位销的移动量的程度，能够减小位
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113140481 A (43)申请公布日 2021.07.20 (21)申请号 202110016234.5 (22)申请日 2021.01.07 (30)优先权数据 2020-0068
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