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本发明公开了一种层间稳定粘附的分布式布拉格反射镜及其制备方法,所述分布式布拉格反射镜由含硅材料与α‑Si交替沉积形成叠层结构,含硅材料膜层与α‑Si膜层间设置3~15nm含硅材料与α‑Si的杂化膜层。该分布式布拉格反射镜通过等离子体增强化学气相沉积方法制备,依次沉积α‑Si膜层、含硅材料膜层,并在含硅材料膜层上沉积α‑Si膜层前期1~4s通入10~100%含硅材料反应气体,形成含硅材料与α‑Si的杂化膜层。所述杂化膜层在不影响膜层折射率的前提下,提高周期性叠加的α‑Si膜层与含硅材料膜层间粘附性
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113126190 A (43)申请公布日 2021.07.16 (21)申请号 202110321122.0 (22)申请日 2021.03.25 (71)申请人 江苏
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