半导体装置.pdfVIP

下载本文档

0
0
约10.71万字
约 206页
2023-06-14 发布于四川
举报
版权申诉

半导体装置.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

一种半导体装置包含第一半导体鳍、第二半导体鳍、多个第一源极/漏极特征部、多个第二源极/漏极特征部、第一栅极结构、第二栅极结构、第一垂直环绕式栅极晶体管及第二垂直环绕式栅极晶体管。第一半导体鳍及第二半导体鳍彼此相邻。第一源极/漏极特征部位于第一半导体鳍的相对侧上。第二源极/漏极特征部位于第二半导体鳍的相对侧上。第一栅极结构位于第一半导体鳍上。第二栅极结构位于第二半导体鳍上。第一垂直环绕式栅极晶体管位于第一源极/漏极特征部中的一者上。第二垂直环绕式栅极晶体管位于第二源极/漏极特征部中的一者上。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113140568 A (43)申请公布日 2021.07.20 (21)申请号 202110076712.1 (22)申请日 2021.01.20 (30)优先权数据 63/029,18