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本发明实施例公开了一种暴露金属层的方法，所述方法包括：提供具有金属层的待处理样品，所述金属层包括目标区域，所述目标区域被绝缘层覆盖；采用双束聚焦离子束机台对所述目标区域的位置进行定位，并在与所述目标区域的位置对应的所述绝缘层上形成标记；采用单束聚焦离子束机台刻蚀所述标记下方的绝缘层，暴露出所述金属层的所述目标区域；其中，所述单束聚焦离子束机台在刻蚀时判断终点的精度高于所述双束聚焦离子束机台在刻蚀时判断终点的精度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113097084 A (43)申请公布日 2021.07.09 (21)申请号 202110296633.1 (22)申请日 2021.03.19 (71)申请人 长江存储科技有限责任公司
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