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本发明提供等离子体处理装置和气体导入方法。自腔室的侧壁向等离子体处理空间以不同的角度导入气体。该等离子体处理装置包括：腔室，具有侧壁和由所述侧壁包围的等离子体处理空间；第1侧部气体导入管线和第2侧部气体导入管线，构成为自所述侧壁向所述等离子体处理空间导入气体，所述第1侧部气体导入管线包括在所述侧壁的周围对称排列的多个第1侧部气体喷射器，所述多个第1侧部气体喷射器分别构成为向所述等离子体处理空间内以第1方向导入气体，所述第2侧部气体导入管线包括在所述侧壁的周围对称排列的多个第2侧部气体喷射器，所述
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112863987 A (43)申请公布日 2021.05.28 (21)申请号 202011309494.3 (22)申请日 2020.11.20 (30)优先权数据 2019-2152
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