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本发明涉及一种碳基多层薄膜,其特征在于,包括基体、过渡层和ta‑C层,所述过渡层包括金属Ta层、金属Ti层和TiC层,所述金属Ta层、金属Ti层、TiC层和ta‑C层依次层叠设置在所述基体上。本发明利用电弧结合偏压产生高能碳离子束轰击金属Ti表层,通过在Ti表面植入碳离子形成TiC层,使金属Ti层与ta‑C层具有很强的界面结合,能显著提高薄膜使用性能和寿命。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112853281 B (45)授权公告日 2022.04.26 (21)申请号 202011607986.0 (51)Int.Cl.
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