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本发明涉及一种修正氧化孔径的方法，氧化孔未经修正直接氧化后在(111)晶面方向的俯视图呈类等边三角形，所述方法包括：在侧向氧化之前，对圆形台面结构的晶面快速氧化方向上的侧壁进行镀膜、沉积或保留原来外延材料形成扩散障碍层，补偿修正侧壁各方向氧化速率的差异，补偿修正方位为未经修正；对已具有扩散障碍层的台面结构侧壁进行扩散及氧化，形成氧化孔。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112864804 A (43)申请公布日 2021.05.28 (21)申请号 202110050480.2 (22)申请日 2021.01.14 (66)本国优先权数据 2020111
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