一种氮空位与羟基协同修饰石墨相氮化碳光催化剂及其制备和在光催化产氢中的应用.pdfVIP

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2023-06-01 发布于四川
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一种氮空位与羟基协同修饰石墨相氮化碳光催化剂及其制备和在光催化产氢中的应用.pdf

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本发明公开了一种氮空位与羟基协同修饰石墨相氮化碳光催化剂及其制备和在光催化产氢中的应用。将三聚氰胺与草酰二肼混合后，进行煅烧，得到氮空位修饰g‑C3N4；将氮空位修饰g‑C3N4与氨水超声混合后，进行水热反应，即得氮空位与羟基协同修饰g‑C3N4光催化剂。该催化剂利用氮空位和羟基对光生电子‑空穴的协同作用提升g‑C3N4光催化剂的产氢速率，H2产率最高可达107.4μmolg‑1h‑1，且该催化剂的制备方法简单，成本低，有利于大规模生产。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112517043 B (45)授权公告日 2021.11.26 (21)申请号 202011500100.2 (56)对比文件