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本发明提供一种氮化钽薄膜电阻及其制备方法，通过在同一机台中，采用磁控溅射法形成依次堆叠的氮化钽层及钝化层的复合结构，从而通过钝化层可对氮化钽层进行保护，避免氮化钽层与外界环境接触，以使得氮化钽层具有良好的阻值稳定性；进一步的，当钝化层采用导电层时，通过钝化层即可实现氮化钽层与电极的互连，从而在整个制备工艺中，均可实现钝化层对氮化钽层的覆盖，以有效实现对氮化钽层的保护，以进一步的提高氮化钽层的阻值稳定性，以便制备高稳定性及一致性的氮化钽薄膜电阻。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112562946 B (45)授权公告日 2022.01.04 (21)申请号 202011367144.2 (51)Int.Cl.
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