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2023-06-01 发布于四川
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一种复合镀膜装置.pdf

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本发明公开了一种复合镀膜装置，包括真空室和位于真空室内的工件转架，真空室内集成有离子束源、脉冲电弧离子源和磁过滤电弧离子源；离子束源用于清洗工件或者辅助沉积；脉冲电弧离子源用于激发石墨靶材，产生碳离子，沉积Ta‑C碳膜；磁过滤电弧离子源用于激发金属靶材，产生金属离子，沉积金属薄膜、合金薄膜或化合物薄膜。本装置将离子束技术、磁过滤离子镀与脉冲离子镀三种技术集成于一个真空室，提供多种镀膜方式，实现多功能性和结构性先进薄膜制备，具有功能丰富、扩展性强的特点，适用于开展科学研究及工业领域多样性生产。尤其

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112522677 A (43)申请公布日 2021.03.19 (21)申请号 202011334802.8 C23C 14/54 (2006.01)