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本发明涉及研磨抛光技术领域,具体而言,涉及一种氮化铝陶瓷基板用抛光液及其制备方法和抛光方法。本发明的氮化铝陶瓷基板用抛光液,主要由以下质量份数的组分组成:氧化铝磨料90~110份、分散剂4~12份和水850~950份;采用pH调节剂调节所述抛光液的pH为3~5。本发明的抛光液可有效的对氮化铝陶瓷基板进行抛光处理,提高抛光速率,显著降低表面粗糙度,易清洗,减少氮化铝陶瓷基板抛光过程中的二次划伤。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112521866 A (43)申请公布日 2021.03.19 (21)申请号 202011483351.4 (22)申请日 2020.12.16 (71)申请人 北京国瑞升科技股份有限公司
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