曝光方法及装置、物品制造方法和制造半导体设备的方法.pdfVIP

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2023-06-01 发布于四川
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曝光方法及装置、物品制造方法和制造半导体设备的方法.pdf

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公开了曝光方法及装置、物品制造方法和制造半导体设备的方法。提供了一种执行经由投影光学系统曝光基板的曝光操作的曝光方法。该方法包括在执行曝光操作的曝光时段中执行投影光学系统的像差校正以校正通过执行曝光操作而生成的像差，在曝光时段之后的不执行曝光操作的非曝光时段中测量投影光学系统的像差，并使用基于测量结果调整的校正量来校正投影光学系统的像差，以便减小投影光学系统的像差校正中的校正残差。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112526829 A (43)申请公布日 2021.03.19 (21)申请号 202010986282.2 (22)申请日 2020.09.18 (30)优先权数据 2019-1708