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本发明提供了一种改进型光学薄膜制备工艺,包括:工艺室、蒸发器、下加热器;所述工艺室内部的底部设有蒸发器,且蒸发器与工艺室螺栓固定;所述工艺室内部的底部设有下加热器,且下加热器水平穿设在蒸发器上;所述工艺室内部的顶部设有基片,且基片与工艺室螺栓固定;所述工艺室内部的顶部设有上加热器,本发明具有降温功能,有利于材料的蒸汽沉积,提高了成膜效率,降低了工艺时长的优点,解决了光学薄膜在镀膜工艺中,工艺室内的基片温度会随着镀膜时间的推移而逐渐与工艺室内的温度持平,导致基片温度偏高,不利于材料的蒸汽在基片上沉
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112522668 A (43)申请公布日 2021.03.19 (21)申请号 202011392208.4 (22)申请日 2020.12.02 (71)申请人 苏州苏克新型材料有限公司
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