一种提高光罩图形线宽均匀性的方法及装置.pdfVIP

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2023-06-01 发布于四川
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一种提高光罩图形线宽均匀性的方法及装置.pdf

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本发明提供了一种提高光罩图形线宽均匀性的方法及装置，所述方法包括：获取目标光罩图形的线宽均匀性要求；获取设计图形；基于所述设计图形仿真获得光罩仿真图形；判断所述光罩仿真图形的线宽均匀性是否满足所述线宽均匀性要求；若否，则在所述设计图形的周围不断添加亚分辨率虚拟图形，改变所述设计图形的图形密度，构成目标设计图形；基于所述目标设计图形，在光罩衬底上形成所述目标光罩图形。该方法通过在设计图形的周围不断添加亚分辨率虚拟图形，丰富设计图形的周围环境，即改变所述设计图形的图形密度，进而改善目标光罩图形的线宽

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112542375 A (43)申请公布日 2021.03.23 (21)申请号 202011389915.8 (22)申请日 2020.12.01 (71)申请人泉芯集成电路制造（济南）有限公司