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近红外线阻断膜第1页/共17页 近红外线阻断膜第2页/共17页 准备知识 近红外（NIR）辐射是波长大于红色光波长的一定范围的电磁辐射，其波长范围为780~2500nm。 近红外线阻断膜是在玻璃或柔性薄膜基材上通过一定的涂（镀）膜工艺制备的一层对近红外线有阻断作用的薄膜。第3页/共17页 分类根据对近红外线阻断的原理，主要分为： 1、吸收型 2、反射型第4页/共17页 应用近红外线阻断膜目前以广泛应用与汽车和建筑物的玻璃窗膜、平板显示器用滤光膜、光学镜片、激光防护材料等领域第5页/共17页 一、吸收型吸收型近红外线阻断膜通常由近红外吸收剂、树脂基体以及助剂组成。其中关键材料是近红外吸收剂。近红外吸收剂分为有机类和无机类。树脂基体主要作为成膜物质，其粘接其他组分形成膜层的功能，它虽然不具有吸收近红外线功能，但是对膜层的物理机械性能其决定性作用。第6页/共17页 1、有机近红外吸收染料（1）菁染料（2）酞菁染料（3）硫代双烯类染料（4）芳甲烷型染料（5）醌型染料（6）偶氮染料第7页/共17页 第8页/共17页 2、无机近红外吸收剂一些金属微粒、无机化合物及金属离子在近红外区也产生一定的吸收。可吸收近红外线的金属微细颗粒有Ni、W、Mo、Co、Pt等还有半导体纳米粒子，ITO、ATO、SnO2过渡金属氧化物一些金属离子在配位电子作用下，如钨、锡、铜等的金属络合物第9页/共17页 3、成膜物质常用的有环氧树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯、醇酸树脂、酚醛树脂、乙烯类树脂以及氟碳树脂、有机硅树脂等第10页/共17页 二、反射型反射型近红外线阻断膜主要有： 半导体薄膜 金属膜 金属-介质膜 全介质多层膜第11页/共17页 近红外线阻断膜制备技术近红外线阻断膜制备技术有涂布技术、物理气相沉积、化学气相沉积等，其中物理气相沉积又包括真空蒸镀、溅射和离子镀等方法。第12页/共17页 1、涂布技术组成涂布液的所有成分必须经混合、溶解、分散等工艺，获得尽量小的分散颗粒尺寸，再用一种或多种涂布方法将输送到涂布头的涂布液涂布在基材或片幅上然后加热蒸发溶剂，或用紫外线或电子束将涂层固化，生产出最终所需要的薄膜。第13页/共17页 2、真空蒸镀真空蒸镀法是在真空条件下通过加热使薄膜初始材料气化，材料的蒸汽沉积在温度较低的基片上，形成所需要的薄膜。根据蒸发源不同分为电阻加热蒸镀、电子束蒸镀、激光蒸镀等第14页/共17页 3、磁控溅射其工艺原理是将基材送入设有磁控阴极和溅射气体（氩气）的真空室内，阴极加负压，在真空室内辉光放电，产生等离子体，由于靶材带负电，等离子体中带正电的气体离子被加速，并以相当于靶极位降的能量撞击靶面，将靶材的原子轰出来，使之沉淀在基材表面上而形成薄膜。按工作电源不同可分为直流磁控溅射和射频溅射第15页/共17页 4、离子束溅射运用一个功率较大的溅射离子源产生高密度的高能离子轰击靶材，产生溅射作用，溅出的粒子（主要是中性粒子）沉积到附近的基片上成膜第16页/共17页 感谢您的欣赏第17页/共17页