半导体膜平面度计算方法、系统及半导体机台调整方法.pdfVIP

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2023-05-31 发布于四川
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半导体膜平面度计算方法、系统及半导体机台调整方法.pdf

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本发明提供一种半导体膜平面度计算方法和系统及半导体机台调整方法。所述半导体膜平面度的获取方法包括，获取半导体膜表面的多个测量点的位置坐标，对多个所述测量点的位置坐标进行拟合，以得到所述半导体膜表面的拟合平面，获取所述半导体膜表面多个待测测量点到所述拟合平面的垂直距离，对多个所述垂直距离处理以得到所述半导体膜表面待测测量点的平面度。通过本发明所提供的半导体膜平面度的计算方法获取半导体膜的平面度工序简单，不需要对各个点的膜厚都进行测量，起到节约人力和物力，提高效率的作用。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112504213 B (45)授权公告日 2021.12.17 (21)申请号 202011435321.6 (56)对比文件