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本发明公开了一种液晶高分子基板及其加工方法,其中,液晶高分子基板包括复合液晶高分子膜和覆盖在该复合液晶高分子膜的至少一个表面上金属导电层;复合液晶高分子膜包括熔点为Tm1的液晶高分子树脂,和熔点为Tm2的液晶高分子树脂,其中Tm1大于Tm2,熔点为Tm2的液晶高分子树脂占液晶高分子膜的树脂总量的质量百分比为1.0~30.0%。本发明主要解决现有技术中液晶高分子基板存在液晶高分子膜与金属导电层之间的粘结强度较低、或液晶高分子膜的耐热性较差、或液晶高分子膜的高频特性较差的技术问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112433405 B (45)授权公告日 2022.04.19 (21)申请号 202011332151.9 (56)对比文件
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