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提供了等离子体处理设备和相关的方法。在一个示例实施方式中，所述等离子体处理设备可包括位于等离子体处理设备的处理腔室中的气体供给装置，例如感应耦合等离子体处理设备。该气体供给装置可包括一个或多个喷嘴。所述一个或多个喷嘴中的每一个可相对于与工件半径平行的方向成角度，以产生与所述工件中心垂直方向的旋转气流。这样的气体供给装置可改善工艺均匀性、工件边缘关键尺寸调节、气体离子化效率和/或所述处理腔室中的对称流，以减少工件上的颗粒沉积，并且还可以降低来自停滞流的热积聚。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112437969 A (43)申请公布日 2021.03.02 (21)申请号 202080003859.1 瑞安 ·M ·帕库尔斯基 (22)申请日 20
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