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本发明公开了一种滤波器基片的回收工艺,将待回收的基片进行清洗处理,去除绝大多数的IDT痕迹,之后使用抛光的方式,对基片的表面进一步加工,从而完成对待回收基片的回收和再利用,本发明工艺在不影响基片性能的情况下,回收基片可用于重新制作滤波器,降低了生产成本,提高生产效率与材料利用率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112404100 A (43)申请公布日 2021.02.26 (21)申请号 202011207765.4 (22)申请日 2020.11.03 (71)申请人 福建晶安光电有限公司
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