一种富含阴离子空位的过渡金属硫族化合物/碳复合材料及其制备方法和应用.pdfVIP

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2023-05-29 发布于四川
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一种富含阴离子空位的过渡金属硫族化合物/碳复合材料及其制备方法和应用.pdf

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一种富含阴离子空位的过渡金属硫族化合物/碳复合材料及其制备方法和应用，它涉及一种金属硫属化合物复合材料及其制备方法和应用。本发明的目的是要解决现有过渡金属硫属化合物存在导电性低，体积效应大，机械强度较差的缺点，将其用作钾离子电池负极材料时存在比容量和倍率性能均低的问题。一种富含阴离子空位的过渡金属硫族化合物/碳复合材料是通过水热合成及高温煅烧原位引入阴离子的方法制备而成，化学式为WMxN2‑x/C，且M和N为不同元素。方法：一、制备网络碳骨架；二、过渡金属硫族化合物与网络碳骨架复合；一种富含阴离

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112397699 B (45)授权公告日 2021.08.13 (21)申请号 202011282462.9 H01M 4/62 (2006.01)