真空沉积设备和用于涂覆基底的方法.pdfVIP

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2023-05-29 发布于四川
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真空沉积设备和用于涂覆基底的方法.pdf

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本发明涉及用于在移动的基底S上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层的真空沉积设备1，所述设备包括：蒸发坩埚4，所述蒸发坩埚4适合于供给金属或金属合金蒸气并且包括蒸发管7；沉积室2，所述沉积室2适合于使基底S沿着给定路径P移动通过；和蒸气喷射涂覆机3，所述蒸气喷射涂覆机3将蒸发管与沉积室连接，其中所述蒸气喷射涂覆机还包括再分配室31和蒸气排放孔32，所述再分配室31包括定位在所述再分配室内的至少一个再加热装置33，所述蒸气排放孔32包括底部开口，所述底部开口将蒸气排放孔与再分配室连接；顶部开口，经由

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112400034 A (43)申请公布日 2021.02.23 (21)申请号 201980039758.7 (74)专利代理机构北京允天律师事务所 11697