湿法腐蚀实现凹栅增强型HEMT器件的方法.pdfVIP

下载本文档

2
0
约1.36万字
约 12页
2023-05-29 发布于四川
举报
版权申诉

湿法腐蚀实现凹栅增强型HEMT器件的方法.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本申请公开了一种湿法腐蚀实现凹栅增强型HEMT器件的方法，其包括：提供用于制作凹栅增强型HEMT器件的外延片；在该外延片上设置图形化刻蚀掩膜，并使该外延片表面的选定区域从该刻蚀掩膜中露出；使该外延片表面的选定区域与过硫酸盐溶液接触，同时以紫外光照射该外延片表面的选定区域，从而在该外延片的势垒层中刻蚀形成凹槽结构，该凹槽结构用于与栅极配合。本申请通过对HEMT器件的栅下区域进行低损伤的湿法刻蚀，避免了因干法刻蚀工艺引入损伤的问题，工艺简单高效，刻蚀均匀，重复性好，无需再增加移除刻蚀产物的工序，且所

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112420513 A (43)申请公布日 2021.02.26 (21)申请号 202011431261.0 (22)申请日 2020.12.07 (71)申请人中国