边缘环、等离子体处理装置和边缘环的制造方法.pdfVIP

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2023-05-29 发布于四川
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边缘环、等离子体处理装置和边缘环的制造方法.pdf

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本发明提供边缘环、等离子体处理装置和边缘环的制造方法。本发明的边缘环在等离子体处理装置的处理容器的内部包围载置于载置台的基片的周围，该边缘环包括：第一部件，其具有能够与在上述处理容器的内部生成的等离子体接触的接触面，并且由第一材料形成；和第二部件，其设置在上述第一部件的与上述接触面相反的一侧，并且由与第一材料不同的第二材料形成，上述第一材料的杨氏模量比上述第二材料高。本发明能够抑制边缘环的消耗，并且减轻传热气体从边缘环与静电吸盘之间泄漏的状况。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112420471 A (43)申请公布日 2021.02.26 (21)申请号 202010810448.5 (22)申请日 2020.08.13 (30)优先权数据 2019-1532