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2023-05-26 发布于四川
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偏移图案以减少线波动.pdf

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本案描述的实施方式提供了一种在数字光刻工艺期间偏移掩模图案数据的方法，以减少曝光图案的线波动。所述方法包括将具有多个曝光多边形的掩模图案数据提供给数字光刻系统的处理单元。处理单元具有多个图像投射系统，其接收掩模图案数据。每个图像投射系统对应于基板的多个部分的一部分，并接收对应于所述部分的曝光多边形。在多个图像投射系统下扫描基板，且在偏移掩模图案数据时将多个发射投射到所述多个部分。多个发射的每个发射在对应于所述部分的曝光多边形内。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112272797 A (43)申请公布日 2021.01.26 (21)申请号 201980039094.4 (74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理