一种镀膜方法.pdfVIP

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本发明提供了一种镀膜方法,包括以下步骤:a)将基材进行第一次等离子清洗后,进行磁控溅射,依次沉积第一层SiO2、第一层Si3N4、第二层SiO2、第二层Si3N4和第三层SiO2,得到AR膜;b)将步骤a)得到的AR膜进行第二次等离子清洗后,镀AF膜料,形成AR+AF膜。与现有技术相比,本发明提供的镀膜方法突破了行业瓶颈,在具有出色防指纹性能的基础上,能够有效提高AR+AF膜的表面硬度和耐摩擦性,并且膜层与膜层之间、膜层与基材之间结合性好,满足产品信赖性要求;同时,本发明对膜层结构进行优化,采用

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112267093 A (43)申请公布日 2021.01.26 (21)申请号 202011156545.3 (22)申请日 2020.10.26 (71)申请人 蓝思科技(东莞)有限公司

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