CIS的微透镜的形成方法.pdfVIP

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2023-05-26 发布于四川
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CIS的微透镜的形成方法.pdf

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本申请公开了一种CIS的微透镜的形成方法，包括：在硬掩模层上形成介质层，硬掩模层下方形成有像素单元；通过光刻工艺在介质层上的目标区域覆盖光阻，目标区域是微透镜所对应的区域；进行第一次刻蚀，在目标区域之间形成沟槽；进行第二次刻蚀，对介质层进行减薄，使目标区域的介质层的表面具有弧度，目标区域的介质层形成微透镜，第二次刻蚀为各向同性刻蚀；去除光阻。本申请通过在CIS的像素单元的上方形成介质层后，通过两次刻蚀形成CIS的微透镜，由于不需要经过两次沉积形成介质层从而形成微透镜，降低了工艺的复杂度，降低了制

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112259567 A (43)申请公布日 2021.01.22 (21)申请号 202011121262.5 (22)申请日 2020.10.20 (71)申请人华虹半导体（无锡）有限公司