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本申请提供一种阵列基板及其制备方法，阵列基板包括基板；第一栅极，设置于基板上方；有源层，设置于第一栅极上方，有源层包括沟道区；栅极绝缘层，设置于有源层上方；第二栅极，设置于栅极绝缘层上方，第二栅极覆盖有源层的沟道区；源极以及漏极，源极和漏极设置在有源层的两端；其中，第二栅极和第一栅极在沿有源层沟道区的方向上部分重叠。本申请通过设计底部栅极相对顶部栅极进行水平方向的偏差，及底部栅极宽度相对顶部栅极的变化，使得阵列基板中通过沟道区的电流增强，减小阈值电压漂移以及饱和电流波动。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112289854 B (45)授权公告日 2021.09.24 (21)申请号 202011136809.9 H01L 29/786 (2006.01)
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