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一种用于处理基板的设备包括:处理腔室,在处理腔室中限定有处理空间;支撑单元,用于在处理空间中支撑基板;流体供应单元,用于将超临界流体供应到处理空间;以及控制器,其构造成控制流体供应单元,其中流体供应单元被构造成将超临界流体以第一密度或高于第一密度的第二密度选择性地供应至处理空间中。因此,当使用超临界流体干燥基板时,可以提高基板的干燥效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112289702 A (43)申请公布日 2021.01.29 (21)申请号 202010698255.5 (22)申请日 2020.07.20 (30)优先权数据 10-2019-0
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