半导体工艺设备及其阻抗调节方法.pdfVIP

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2023-05-26 发布于四川
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半导体工艺设备及其阻抗调节方法.pdf

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本发明实施例提供一种半导体工艺设备及其阻抗调节方法，该半导体工艺设备包括工艺腔室、阻抗匹配器和射频电源，工艺腔室中设置有卡盘装置，其包括基座和设置在基座上，用于承载被加工工件的介质层，介质层中设置有射频电极，射频电极通过阻抗匹配器与射频电源电连接；基座通过接地结构接地，半导体工艺设备还包括阻抗调节电路，阻抗调节电路一端与基座的电连接，另一端接地，阻抗调节电路用于调节阻抗匹配器的输出端与接地结构的接地端之间的实际阻抗值，以使其与预设的标准阻抗值一致。本发明实施例提供的半导体工艺设备及其阻抗调节方法

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112259491 A (43)申请公布日 2021.01.22 (21)申请号 202011089005.8 (22)申请日 2020.10.13 (71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司