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本发明提供一种用于制作透明导电氧化物薄膜的镀膜设备及镀膜方法,镀膜设备包括阴极镀膜源及载盘,载盘包括追盘部件及承载台阶;通过阴极镀膜源,在同一真空腔内、无需翻转的情况下进行双面镀膜;通过追盘部件,遮挡多个载盘之间的缝隙,实现阴极镀膜源的隔离式布局,避免阴极镀膜源的相互影响;通过承载台阶承载待镀膜件并对待镀膜件进行遮挡,避免透明导电氧化物薄膜的导通,避免引起SHJ太阳电池的短路;通过加固部件,防止载盘的变形,提高产品质量。本发明实现了“无应力”双面同位连续镀膜,减小镀膜设备的占地面积、避免待镀膜件
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112239847 A (43)申请公布日 2021.01.19 (21)申请号 20191
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