用于处理基板的装置和方法.pdfVIP

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2023-05-25 发布于四川
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本发明涉及一种用于处理基板的装置和方法。用于处理基板的装置包括：工艺腔室，在所述工艺腔室中具有处理空间；支承单元，其在所述处理空间中支承所述基板；气体供应单元，其将工艺气体供应至所述处理空间中；RF电源，其供应RF信号以将所述工艺气体激发成等离子体；和匹配电路，其连接在所述RF电源与所述工艺腔室之间。所述匹配电路包括：阻抗匹配设备，其执行阻抗匹配；和谐波去除设备，其去除由所述RF电源引起的谐波。当感测到由所述RF电源引起的所述谐波时，所述匹配电路以第一模式操作；当未感测到由所述RF电源引起的所述

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112242285 A (43)申请公布日 2021.01.19 (21)申请号 202010683613.5 (22)申请日 2020.07.15 (30)优先权数据