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本发明公开了一种BST基多层介电增强薄膜及其制备方法,包括衬底,采用溶胶凝胶法在衬底上旋涂多层异质薄膜,利用磁控溅射在多层异质薄膜上沉积Au电极,所述多层异质薄膜由BST薄膜和BTO薄膜交替堆叠构成。该结构是利用溶胶凝胶旋涂制膜,通过不同的溶胶浓度以及旋涂工艺获得周期厚度不一的多层异质结构薄膜,本发明改善了由于进一步减小薄膜厚度所带来的介电性能下降的问题,使材料的介电常数得到剧增。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112259374 A (43)申请公布日 2021.01.22 (21)申请号 202010972653.1 (22)申请日 2020.09.16 (71)申请人 华南理工大学 地址
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