套刻误差测量装置及其测量方法和优化方法.pdfVIP

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2023-05-24 发布于四川
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套刻误差测量装置及其测量方法和优化方法.pdf

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本发明属于光刻相关技术领域，其公开了一种套刻误差测量装置及其测量方法和优化方法，该装置包括：照明系统；设于照明系统光路上的起偏臂，起偏臂沿光路依次包括起偏器、第一相位延迟器、第二相位延迟器以及第一透镜组；与起偏臂沿待测套刻样件表面的法线对称设置的检偏臂，检偏臂沿光路依次包括第二透镜组、第三相位延迟器、第四相位延迟器以及检偏器；设于检偏臂光路上的探测系统，探测系统将检偏臂解调的光束会聚并将光束发送至数据处理系统，数据处理系统将光束转化为穆勒矩阵，并根据穆勒矩阵获得套刻误差。本申请待测套刻样件的套刻

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112198763 A (43)申请公布日 2021.01.08 (21)申请号 202011056590.1 (22)申请日 2020.09.29 (71)申请人华中科技大学地址